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精密压印晶圆级微纳光学

炬光科技于2024年完成对Heptagon资产的收购，获得晶圆级微纳光学（WLO）精密压印加工制造技术，结合微纳光学设计目标进行母版的设计与制造，在6英寸或8英寸晶圆POG (Polymer on Glass)基板上进行高精密压印，易于扩展的晶圆级工艺，可满足微纳光学元器件的大规模生产。

WLO 的优势：适合大批量生产的全晶圆级工艺；紫外线固化、低温、低压工艺；针对微米/纳米结构的适形微流体填充技术；对小于 1 微米的特征进行适形再现；可回流的光学材料，热性能高。

精密压印晶圆级微光学镜组

炬光科技于2024年完成对Heptagon资产的收购，获得晶圆级堆叠工艺(WLS)技术，使用先进的掩膜对准设备对多个光学晶圆与刚性间隔块进行几微米级精度堆叠，形成镜组，具备无镜筒、支架、高度紧凑、高度集成和可回流等特征。

蚀刻微纳光学

炬光科技可在6或8英寸硅或熔融石英晶圆上通过精密光刻-反应离子蚀刻的工艺实现微纳光学元器件的加工制造。微透镜典型中心厚度为0.3-3毫米，矢高可达0.1毫米，微透镜阵列pitch距离间隔精度小于0.3微米。除常见的单面（非）球微透镜结构外，亦可加工（非）柱面微透镜、2-20微米尺寸的凹槽、中心对齐精度小于3微米的双面微透镜结构，微透镜背面可加工45度角的微棱镜。

单(非)球面柱透镜

炬光科技可在最多为12英寸（300mmx300mm）的无机材料晶圆上通过全球独一无二的晶圆级同步结构化激光光学制造技术，实现微纳光学元器件的加工制造。此技术可适用于任何无机材料基材加工，包括氟化钙、氟化镁、玻璃、石英、硅、锗、硒化锌等各种光学材料，具有高精度、高重复性、大批量、低成本的特点。

V型槽阵列

炬光科技凭借晶圆级精密制造工艺，开发出专为光模块、光纤连接器、FTTX网络中的PLC分路器、WDM系统中的AWG等多通道应用的精密设计V型槽阵列，在96通道下累计pitch公差控制在±1μm，确保光纤阵列的精准对准，提升多通道光纤间的耦合效率，减少光信号传输损耗。

微透镜阵列 (MLA) 及组件

精密模压光学

炬光科技依托自主研发的超精密模具，确保我们多样化的产品组合（包括非球面透镜、柱面镜、复眼透镜等）具备卓越品质与严格公差。凭借在工艺优化与成本控制方面成熟的专业能力，我们提供快速量产和大规模生产能力，以满足多样化应用场景的需求。

高损伤阈值镀膜与光学